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雪崩式光电二极管原理 雪崩光电二极管原理图

半导体雪崩光电二极管的工作原理

当一个半导体二极管加上足够高的反向偏压时,在耗尽层内运动的载流子就可能因碰撞电离效应而获得雪崩倍增。人们初在研究半导体二极管的反向击穿机构时发现了这种现象。当载流子的雪崩增益非常高时,二极管进入雪崩击穿状态;在此以前,只要耗尽层中的电场足以引起碰撞电离,则通过耗尽层的载流子就会具有某个平均的雪崩倍增值。

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雪崩光电二极管利用什么原理使检测灵敏度提高

光敏二极管和光敏三极管是光电转换半导体器件,与光敏电阻器相比具有灵敏度高、高频性能好,可靠性好、体积小、使用方便等优点。 光敏二极管也叫光电二极管。光敏二极管与半导体二极管在结构上是类似的,其管芯是一个具有光敏特征的PN结,具有单向导电性,因此工作时需加上反向电压。无光照时,光敏二极管截止。当光线照射PN结时,光敏二极管导通。光敏二极管使用时要反向接入电路中,即正极接电源负极,负极接电源正极。常见的有2CU、2DU等系列。 光敏二极管是一种光电转换器件,其基本原理是光照到PN结上时,吸收光能并转变为电能。它具有两种工作状态:(1)当光敏二极管加上反向电压时,管子中的反向电流随着光照强度的改变而改变,光照强度越大,反向电流越大,大多数都工作在这种状态。(2)光敏二极管上不加电压,利用P-N结在受光照时产生正向电压的原理,把它用作微型光电池。这种工作状态,一般作光电检测器。光敏二极管分有P-N结型、PIN结型、雪崩型和肖特基结型,其中用得多的是PN结型,价格便宜。.光敏三极管和普通三极管相似,也有电流放大作用,只是它的集电极电流不只是受基极电路和电流控制,同时也受光辐射的控制。 通常基极不引出,但一些光敏三极管的基极有引出,用于温度补偿和附加控制等作用。当具有光敏特性的PN 结受到光辐射时,形成光电流,由此产生的光生电流由基极进入发射极,从而在集电极回路中得到一个放大了相当于β倍的电流。不同材料制成的光敏三极管具有不同的光谱特性,与光敏二极管相比,具有很大的光电流放大作用,即很高的灵敏度。它由光控三极管和35集成电路两部分组成。图中光敏三极管T1和晶体三极管T2,电阻R1、R2、R3和电容C1、C2等构成光控开关电路。集成电路IC及三极管T3、电阻R4、R5等构成放大电路。平常在光源照射下,T1呈低阻状态,T2饱和导通,IC触发端3脚得不到正触发脉冲而不工作,扬声器无声。当T1被物体遮挡时,便产生一负脉冲电压,并通过C1耦合到T2的基极,导致T2进入截止状态,IC获得一正触发脉冲而工作,输出音频通过T3放大,推动扬声器发出声响 这个估计需要详细的说明才弄的了去硬之城看看吧或许有人会。

光电二极管的工作原理

光电二极管的工作原理如下:

当用光照射PN结时,共价键被电离。这会产生空穴和电子对。由于电子-空穴对的产生而产生光电流。当能量超过1.1eV的光子撞击二极管时,就会形成电子空穴对。当光子进入二极管的耗尽区时,它以高能量撞击原子。这导致电子从原子结构中释放。电子释放后,产生自由电子和空穴。

当用光照射PN结时,共价键被电离。这会产生空穴和电子对。由于电子-空穴对的产生而产生光电流。当能量超过1.1eV的光子撞击二极管时,就会形成电子空穴对。当光子进入二极管的耗尽区时,它以高能量撞击原子。这导致电子从原子结构中释放。电子释放后,产生自由电子和空穴。

光电二极管的工作模式:

(1)光伏模式。

(2)光电导模式。

(3)雪崩二极管模式。

这也称为零偏置模式。当光电二极管工作在低频应用和超强光应用中时,这种模式是。当光电二极管受到闪光的照射时,就会产生电压。产生的电压将具有非常小的动态范围并且具有非线性特性。当光电二极管在这种模式下配置OP-AMP时,温度变化会非常小。

2.光电导模式。

在这种模式下,光电二极管将在反向偏置条件下工作。阴极为正极,阳极为负极。当反向电压增加时,耗尽层的宽度也增加。因此,响应时间和结电容将减少。相比之下,这种操作模式速度快,并且会产生电子噪声。

跨阻放大器用作光电二极管的前置放大器。这种放大器的模式保持电压保持恒定,使光电二极管工作在光电导模式。

PIN光电二极管与雪崩光电二极管的工作原理与特点。

PIN: 光敏面接收对应波长的光照时,产生光生电流;

雪崩光电二极管(APD):除了和PIN相同部分外,多了一个雪崩增益区,光生电流会被放大,

放大的倍数称为雪崩增益系数。当然同时也会产生噪声电流。

光模块:PIN光电二极管和APD光电二极管

光电探测器。

光模块接收端能正确识别信号并完成光电转换,就需要光电探测器,光电探测器通过检测出照射在其上面的光功率,从而并完成光/电信号的转换。我们常用的PIN光电二极管和APD(雪崩)光电二极管就属于光电探测器。要说探测器,就必须说说探测器基本的结构PN结。

PN结

PN结,指的将P型半导体和N型半导体制作在同一块半导体的基片上,在这两个半导体的交界处形成的空间电荷区。我们先看看什么是P型和N型半导体。

P型半导体:含有较高浓度的“空穴”(空穴相当于正电荷),所以是Positive的P,成为能导电的物质;

N型半导体:含电子浓度较高的半导体,导电性由自由电子导电,由于电子带负电,所以是Negative的N。

因此,在P型半导体和N型半导体交界处就出现了电子和空穴的浓度,从而形成空穴和电子的扩散运动,导致一些电子从N型区向P型区扩散,一些空穴又从P型区向N型区扩散。终的结果就是在PN交汇处形成空间电荷区电场(内电场,从N指向P),也称之为PN结(缺少“多子”也叫耗尽层)。

(图片来源于网络)

在这里说明一下内部电场,这个电场的形成就导致了载流子的漂移运动,一是N区的载流子空穴向P区漂移,另外是P区的载流子电子向N区漂移。

(图片来源于网络)

因此,单纯的PN二极管的扩散运动只发生在PN结附近,远离PN结的地方就没有电场存在,这也是为什么PN二极管的光电变换效率低下以及响应速度也很慢。

PIN光管二极管

为了解决这个问题,提高转换效率和响应速率,通过在P型和N型半导体之间增加 一层轻掺杂的N型材料 I (Intrinsic,本征的)层,以展宽耗尽层,提高转换效率,这是因为轻掺杂I层,电子浓度很低,经扩散后就可以形成一个很宽的耗尽层。这就是我们的PIN光电二极管。

PIN光电二极管

原理:

(1)光子照射在半导体材料上产生光生载流子;

(2)光电流在外部电路作用下形成电信号并输出。

APD雪崩光管二极管

在前面的文章中我们说到,APD雪崩光电二极管具有较高的接收机灵敏度,这个较高灵敏度靠的就是对初级的电光流进行雪崩倍增效果。说到雪崩,估计大家脑海中的第一印象就是大雪山发生雪崩,其实也是同样的道理,高山上的一点雪发生碰撞,从上而下一路累积,雪团越来越大,后形成雪崩。

从这里我们可以看出,要发生雪崩,必须具备一个条件就是山要足够的高。因此,雪崩光电二极管也就是在PIN光电二极管的基础结构中增加了雪崩区。使得光生载流子在其耗尽区(高场区)内的碰撞电离效应激发出新的电子-空穴对,新产生的载流子通过电场加速,导致更多的碰撞电离产生,一生二,二生三,三生万物,从而获得光生电流的雪崩倍增。

APD雪崩光电二极管

原理:

(1)光子照射在半导体材料上产生光生载流子;

(2)光生载流子在雪崩区即高电场区发生雪崩倍增;

(3)光电流在外部电路作用下形成电信号并输出。

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